アドテックエンジニアリング、独自技術で世界最高のシステムバランスを実現したダイレクトイメージング露光装置「INPREX」などを、JPCA Show 2024にて紹介

株式会社アドテックエンジニアリング(所在地：東京都港区、代表取締役社長： 竹田　幸一郎)は、「JPCA Show 2024」（2024年6月12日～6月14日、会場：東京ビッグサイト）に出展し、ダイレクトイメージング露光装置「INPREX」などを展示紹介しました。

当社は、トップシェアを誇るプリント基板用露光装置をはじめエレクトロニクス業界の様々な分野で培ってきた高度な技術をベースに、クライアントの課題解決に取り組み、市場を先取りした最先端の装置を開発しています。
創業以来、各種分野のFA装置を400機種以上設計・製作してきたノウハウを活かし、生産現場の生産性向上、省人化を実現しています。自動化のプロによる、設備納入後の使い勝手や稼働状況を想定した一歩踏み込んだ提案から、製作、立上げ、保守まで一貫したサービスを提供しています。

品質、スピード、安定性。独自技術で世界最高のシステムバランスを実現。
世界の先進ユーザーが選び続けるダイレクト露光装置、INPREX。

独自レーザーユニットに、先進レンズ設計技術を融合した新描画エンジンを搭載。高品位・高出力のレーザーヘッドを基板幅で配置して、ワンタイムスキャンも実現。
ヘッド間でのつなぎやズレのない高品質露光を実現します。

基板の反りやうねりによる高さ変化や、ビルドアップ層の微妙な凹凸に対応する当社独自開発のワイドレンジ・オートフォーカス機能を露光ヘッド毎に搭載。
露光面に対して最適なピント合わせを行ないます。

マーク位置ずれや、外形寸法のばらつきによるアライメントエラー発生時も、ライン停止なしで、基板位置を自動調整し、アライメントを再実行。
リジェクトされる基板が減り生産性が向上します。

チップレットを中心に半導体後工程が脚光を浴びる中、微細化の進む半導体パッケージサブストレートは、L/S=5/５㎛（マイクロメートル）へと進化していきます。
次世代を担う“NEXT”INPREXは、微細化と高生産性の両立をターゲットに、従来装置の特徴であるワンタイムスキャンを継承しながら、現像後の最高解像性能L/S=2/2㎛を実現、L/S=5/５㎛サブストレート量産化を後押しします。
※開発中のため、仕様は予告なく変更することがあります。